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​离子镀膜中的离子源介绍

虽然离子源的类型有很多种,但目的无非是在线清洗,改善PVD真空镀膜表面的能量分布,调制增加反应气体的能量。离子源可以大大提高膜与基体的结合强度,同时也可以提高膜本身的硬度、耐磨性和耐腐蚀性。如果是电镀工具的耐磨层,厚度一般较大,膜厚均匀性不高。可以使用离子电流...
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镀膜技术的原理介绍

真空镀膜技术是一项新兴的技术,国际上直到60年代才开始将CVD(化学气相镀膜)技术应用到硬质合金工具中。因为这种方法需要在高温(工艺温度高于1000ºC)下进行,且涂层类型单一,局限性很大,所以在开发初期还有待改进
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镀膜工艺原理介绍

​PVD真空镀膜是在真空中将钛、金、石墨、水晶等金属或非金属、气体等材料利用溅射、蒸发或离子镀等技术,在基材上形成薄膜的一种表面处理过程。
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真空镀膜机对材料的要求

电镀机所使用的材料一帮分为两种,分别是底层涂料表面涂料,对于这两种涂料所要求的也不一样,比方说对底层涂料的要求选择
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真空镀膜机表面处理涂料介绍

渗透型的表面处理涂料基本原理是采用渗透性强的树脂为基,配合极性溶剂、渗透剂使得涂料具备良好的性能,并增强涂层的附着力。
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真空镀膜材料选用需要考虑的因素

气体从密度大的一侧向密度小的一侧渗入、扩散、通过和溢出固体阻挡层的过程成为渗透。该情况的稳态流率称为渗透率。渗透率与气体和材料的种类有关。对于金属,有些金属(如不锈钢、铜、铝、钼等)的气体渗透系数很小,在大多数实际应用中可以忽略不计。但对某些金属(如铁、镍等)...
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